[实用新型]蚀刻设备有效
| 申请号： | 201721567699.5 | 申请日： | 2017-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN207517641U | 公开（公告）日： | 2018-06-19 |
| 发明（设计）人： | 刘亚兵;杨建;刘志豪 | 申请（专利权）人： | 深圳市柔宇科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 张润 |
| 地址： | 518172 广东省深圳市龙岗区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种蚀刻设备。蚀刻设备包括蚀刻腔体、电极板、第一支撑装置和设置在第一支撑装置之间的第二支撑装置。电极板、第一支撑装置和第二支撑装置位于蚀刻腔体内。第一支撑装置被配置成通过工件部分地放置在第一支撑装置上以使工件与电极板间隔设置。第二支撑装置被配置成支撑工件相对于电极板上升或下降。本实用新型实施方式的蚀刻设备中，第一支撑装置工件可以使得工件与电极板在蚀刻过程中间隔设置，工件下表面不容易或避免因电极板的静电吸附力影响而产生凸起印记(Emboss ink)，进而提高工件的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑装置 电极板 蚀刻设备 本实用新型 电极板间隔 静电吸附力 蚀刻 蚀刻腔体 支撑工件 蚀刻腔 下表面 中间隔 良率 配置 凸起 印记 体内 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻设备，其特征在于，包括蚀刻腔体、电极板、第一支撑装置和设置在所述第一支撑装置之间的第二支撑装置，所述电极板、所述第一支撑装置和所述第二支撑装置位于所述蚀刻腔体内，所述第一支撑装置被配置成通过将工件部分地放置在所述第一支撑装置上以使所述工件与所述电极板间隔设置，所述第二支撑装置被配置成支撑所述工件相对于所述电极板上升或下降。
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