[实用新型]一种真空镀膜设备有效
申请号: | 201721590761.2 | 申请日: | 2017-11-24 |
公开(公告)号: | CN207452246U | 公开(公告)日: | 2018-06-05 |
发明(设计)人: | 张笑 | 申请(专利权)人: | 上海仟纳真空镀膜科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C16/54 |
代理公司: | 北京君泊知识产权代理有限公司 11496 | 代理人: | 王程远 |
地址: | 201100 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种真空镀膜设备,包括腔体,所述腔体包括有若干个首尾相连的镀膜空间,每个所述镀膜空间中均设置有靶材、敲击探头、基板以及第一抽真空组件,位于相邻两个所述镀膜空间之间均设置有过渡空间,过渡空间的容积小于任一镀膜空间的容积,所述过渡空间的两侧均设置有过渡墙,所述过渡墙上均设置有过渡阀,所述过渡空间通过所述过渡阀可选择与位于该过渡空间两侧的镀膜空间连通或隔绝,每个所述过渡空间中均设置有第二抽真空组件。本实用新型提供的一种真空镀膜设备能够提高制造效率。 | ||
搜索关键词: | 过渡空间 镀膜空间 真空镀膜设备 本实用新型 抽真空组件 过渡阀 腔体 首尾相连 过渡墙 靶材 基板 探头 敲击 连通 制造 | ||
【主权项】:
一种真空镀膜设备,其特征在于,包括腔体(1),所述腔体(1)包括有若干个首尾相连的镀膜空间(2),每个所述镀膜空间(2)中均设置有靶材(3)、敲击探头(4)、基板(5)以及第一抽真空组件(6),位于相邻两个所述镀膜空间(2)之间均设置有过渡空间(7),过渡空间(7)的容积小于任一镀膜空间(2)的容积,所述过渡空间(7)的两侧均设置有过渡墙(8),所述过渡墙(8)上均设置有过渡阀(9),所述过渡空间(7)通过所述过渡阀(9)可选择与位于该过渡空间(7)两侧的镀膜空间(2)连通或隔绝,每个所述过渡空间(7)中均设置有第二抽真空组件(10)。
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