[实用新型]真空镀膜设备有效
| 申请号： | 201721592355.X | 申请日： | 2017-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN207452247U | 公开（公告）日： | 2018-06-05 |
| 发明（设计）人： | 张笑 | 申请（专利权）人： | 上海仟纳真空镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/54 |
| 代理公司： | 北京君泊知识产权代理有限公司 11496 | 代理人： | 王程远 |
| 地址： | 201100 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种真空镀膜设备，包括腔体，腔体包括有第一中转腔室、第二中转腔室以及若干个首尾相连的镀膜腔室，相邻镀膜腔室之间设置有传板阀，每个镀膜腔室中均设置有靶材、敲击探头、基板、第一抽真空组件以及第二抽真空组件，任意两个相邻的镀膜腔室均通过第一抽真空组件以及第二抽真空组件分别与第一中转腔室和第二中转腔室中的一个连接，第一抽真空组件用于将镀膜腔室中的气体泵入到第一中转腔室或第二中转腔室中，第二抽真空组件用于将第一中转腔室或第二中转腔室中的气体泵入到镀膜腔室中，第一中转腔室中设置有第三抽真空组件，第二中转腔室中设置有第四抽真空组件。本实用新型提供的真空镀膜设备能够使得镀膜的成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 中转腔室 抽真空组件 镀膜腔室 真空镀膜设备 本实用新型 气体泵 腔体 首尾相连 探头 靶材 传板 镀膜 基板 敲击 | ||
【主权项】：
一种真空镀膜设备，其特征在于，包括腔体(1)，所述腔体(1)包括有第一中转腔室(2)、第二中转腔室(3)以及若干个首尾相连的镀膜腔室(4)，相邻所述镀膜腔室(4)之间设置有传板阀(5)，每个所述镀膜腔室(4)中均设置有靶材(6)、敲击探头(7)、基板(8)、第一抽真空组件(9)以及第二抽真空组件(10)，任意两个相邻的镀膜腔室(4)均通过所述第一抽真空组件(9)以及第二抽真空组件(10)分别与第一中转腔室(2)和第二中转腔室(3)中的一个连接，所述第一抽真空组件(9)用于将镀膜腔室(4)中的气体泵入到第一中转腔室(2)或第二中转腔室(3)中，所述第二抽真空组件(10)用于将第一中转腔室(2)或第二中转腔室(3)中的气体泵入到镀膜腔室(4)中，所述第一中转腔室(2)中设置有第三抽真空组件(11)，用于对第一中转腔室(2)进行抽真空，所述第二中转腔室(3)中设置有第四抽真空组件，用于对第二中转腔室(3)进行抽真空。
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