[实用新型]一种法拉第杯结构及离子植入设备有效
申请号: | 201721615608.0 | 申请日: | 2017-11-28 |
公开(公告)号: | CN207503931U | 公开(公告)日: | 2018-06-15 |
发明(设计)人: | 唐瑞龙;倪明明;洪纪伦;吴宗祐;林宗贤 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01J37/244;H01J49/02;H01L21/265 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 223300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提供一种法拉第杯结构及离子植入设备,所述法拉第杯结构包括:法拉第杯;固定部,所述固定部为空心立方体结构;任意一组首尾相连的四个表面为四个第一表面,至少一个所述第一表面上固定有法拉第杯;另外两个表面为第二表面;固定于任意一个所述第二表面的转动杆,其中,所述转动杆具有直线运动和旋转运动的自由度;固定于所述固定部一侧的永久磁体。通过本实用新型提供的法拉第杯结构及离子植入设备,解决了现有法拉第杯使用周期短,更换频繁的问题。 1 | ||
搜索关键词: | 法拉第杯 离子植入设备 固定部 本实用新型 第二表面 第一表面 转动杆 空心立方体结构 使用周期 首尾相连 永久磁体 | ||
【主权项】:
1.一种法拉第杯结构,其特征在于,所述法拉第杯结构包括:
法拉第杯;
固定部,所述固定部为空心立方体结构,任意一组首尾相连的四个表面为四个第一表面,至少一个所述第一表面上固定有法拉第杯,另外两个表面为第二表面;
固定于任意一个所述第二表面的转动杆,其中,所述转动杆具有直线运动和旋转运动的自由度;
固定于所述固定部一侧的永久磁体。
2.根据权利要求1所述的法拉第杯结构,其特征在于,所述永久磁体通过支架固定于所述固定部的一侧。3.根据权利要求1所述的法拉第杯结构,其特征在于,所述固定部包括长方体结构,所述长方体结构的四个第一表面上均固定有至少一个法拉第杯。4.根据权利要求3所述的法拉第杯结构,其特征在于,所述长方体结构的四个第一表面上均固定有一个法拉第杯。5.一种离子植入设备,其特征在于,所述离子植入设备包括如权利要求1至4任一项所述的法拉第杯结构。6.根据权利要求5所述的离子植入设备,其特征在于,所述离子植入设备还包括设于所述法拉第杯底部、且与所述法拉第杯内壁连接的电流计。7.根据权利要求5所述的离子植入设备,其特征在于,所述离子植入设备还包括设于所述法拉第杯结构前方的离子束产生装置,及设于所述法拉第杯结构后方的待植入结构。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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