[实用新型]一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机有效

专利信息
申请号: 201721619812.X 申请日: 2017-11-29
公开(公告)号: CN207498461U 公开(公告)日: 2018-06-15
发明(设计)人: 李双江;董顺;曹崇友 申请(专利权)人: 沈阳鹏程真空技术有限责任公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/54
代理公司: 沈阳技联专利代理有限公司 21205 代理人: 张志刚
地址: 110000 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机,涉及一种镀镆机,所述镀镆机包括有真空室、支撑真空室的机台、置于机台内部的电器控制系统及真空室的上盖、均布于上盖上的三个磁控靶,上盖上连接有两支气压支撑杆,真空室后面设有抽气管,抽气管中设有节流阀,抽气管的后端通过气动插板阀与分子泵相接,分子泵的排气口通过波纹管连接于机械泵;真空室上盖上面均布三只磁控靶,每只靶头上,均设有独立的挡板机构;真空室前面设有玻璃观察窗;真空室右面,设有辅助照明的引入接口。该镀膜机为一体式结构,外接水、电、气即可工作,用户只需设置好若干参数,例如镀镆时间、并放样、取样等,就可以全自动运行。 1
搜索关键词: 真空室 上盖 抽气管 机台 小型真空 靶溅射 磁控靶 分子泵 磁控 均布 电器控制系统 右面 玻璃观察窗 气动插板阀 气压支撑杆 全自动运行 一体式结构 挡板机构 辅助照明 波纹管 镀膜机 机械泵 节流阀 排气口 放样 取样 外接 引入 支撑
【主权项】:
1.一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机,其特征在于,所述镀镆机包括有真空室、支撑真空室的机台、置于机台内部的电器控制系统及真空室的上盖、均布于上盖上的三个磁控靶,上盖上连接有两支气压支撑杆,真空室后面设有抽气管,抽气管中设有节流阀,抽气管的后端通过气动插板阀与分子泵相接,分子泵的排气口通过波纹管连接于机械泵;真空室上盖上面均布三只磁控靶,每只靶头上,均设有独立的挡板机构;真空室前面设有玻璃观察窗;真空室右面,设有辅助照明的引入接口;真空室底部中心位置设有可以加热、旋转的样品台;真空室底部四周分部有真空规接入口、预抽气口、两路气体充入口;旋转加热样品台内部安装铠装加热盘,旋转加热样品台的四周设有一块环形防尘板,旋转加热样品台上镶嵌一个被动大齿轮、啮合一个主动小齿轮,磁流体密封轴上通过联轴器连接步进电机,支撑真空室的机台上设有触摸屏及一套电控系统,底部设有移动地脚。

2.根据权利要求1所述的一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机,其特征在于,所述真空室后面抽气口上设有节流阀、气动插板阀并连接分子泵。

3.根据权利要求2所述的一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机,其特征在于,所述分子泵的排气口通过截止阀和波纹管接入机械泵。

4.根据权利要求1所述的一种小型真空磁控三靶溅射镀镆机,其特征在于,所述主动小齿轮镶嵌在磁流体密封轴上。

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