[实用新型]一种用于γ辐照装置源架的保护机构有效
申请号: | 201721639638.5 | 申请日: | 2017-11-30 |
公开(公告)号: | CN208045115U | 公开(公告)日: | 2018-11-02 |
发明(设计)人: | 陈强;董凯丰;许源;王建中;肖海亮 | 申请(专利权)人: | 上海金鹏源辐照技术有限公司 |
主分类号: | G21K5/00 | 分类号: | G21K5/00 |
代理公司: | 上海世圆知识产权代理有限公司 31320 | 代理人: | 王佳妮 |
地址: | 201703 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种用于γ辐照装置源架的保护机构,保护机构包括一支架,所述的支架包括立柱和防撞杆,支架的两侧分别设有防撞开关组件;支架上设有上、下两层辐照容器,上、下辐照容器分别设有对应的上、下层限位轮。立柱和防撞杆围合成为一个保护空间,可以有效保证辐照容器对于源架的接触和碰撞,避免卡源事故的发生;支架的左右两端各设置一套防撞开关组件,用于对辐照容器在超出正常行进位时进行提醒并报警,给予操作人员足够的时间排除安全隐患。 | ||
搜索关键词: | 支架 辐照容器 保护机构 源架 γ辐照装置 开关组件 防撞杆 防撞 立柱 本实用新型 安全隐患 限位轮 卡源 两层 围合 下层 行进 报警 保证 | ||
【主权项】:
1.一种用于γ辐照装置源架的保护机构,所述的保护机构设置于辐照室内,保护机构用于保护源架,其特征在于:所述保护机构包括一支架,所述的支架包括立柱和防撞杆,支架的两侧分别设有防撞开关组件;支架上设有上、下两层辐照容器,上、下辐照容器分别设有对应的上、下层限位轮。
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