[实用新型]蒸发源及蒸镀设备有效
| 申请号： | 201721643442.3 | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN207525325U | 公开（公告）日： | 2018-06-22 |
| 发明（设计）人： | 赵子仪;张金中;黄俊杰;裴凤巍 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;刘伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种蒸发源及蒸镀设备，该蒸发源包括：坩埚，所述坩埚具有用于盛放蒸镀材料的容置腔，且所述容置腔包括多个蒸镀区；加热单元，用于加热所述坩埚内的蒸镀材料，设置于所述坩埚上；检测部件，用于检测各所述蒸镀区的蒸镀状态，设置在所述坩埚上，所述蒸镀状态包括蒸镀速率；用于对各蒸镀区的蒸镀温度进行调节的调温部件，设置在所述坩埚上；以及，用于根据所述检测部件所检测到的各所述蒸镀区的蒸镀状态，控制所述调温部件对各所述蒸镀区的蒸镀温度进行调节的控制单元，所述控制单元与所述检测部件和所述调温部件分别连接。本实用新型能够实时监控坩埚内蒸镀状态，实现膜厚均一性可控的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸镀 坩埚 调温部件 蒸发源 检测 本实用新型 蒸镀材料 蒸镀设备 容置腔 膜厚均一性 加热单元 实时监控 可控的 加热 盛放 | ||
【主权项】：
1.一种蒸发源，其特征在于，包括：坩埚，所述坩埚具有用于盛放蒸镀材料的容置腔，且所述容置腔包括多个蒸镀区；加热部件，用于加热所述坩埚内的蒸镀材料，设置于所述坩埚上；检测部件，用于检测各所述蒸镀区的蒸镀状态，设置在所述坩埚上，所述蒸镀状态包括蒸镀速率；调温部件，用于对各所述蒸镀区的蒸镀温度进行调节，设置在所述坩埚上；以及，控制单元，用于根据所述检测部件所检测到的各所述蒸镀区的所述蒸镀状态，控制所述调温部件对各所述蒸镀区的蒸镀温度进行调节，所述控制单元与所述检测部件和所述调温部件分别连接。
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