[实用新型]气体混合装置以及包括该气体混合装置的CVD设备有效
| 申请号： | 201721663355.4 | 申请日： | 2017-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN207512257U | 公开（公告）日： | 2018-06-19 |
| 发明（设计）人： | 刘凤娟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人： | 张雪梅 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种气体混合装置以及包括该气体混合装置的CVD设备，包括：混合管、与混合管出口连接的混合腔、与混合腔出口连接的导出管，混合管的内壁为螺旋结构。本实用新型将混合管内壁设置为螺旋结构，原料气体沿螺旋形结构行进过程中受管壁螺旋结构的约束多次改变行进方向，多种气体在同一管路中充分混合，随后气体进入直径变大的混合腔形成涡流，在混合腔中进一步存储混合。本实用新型公开的气体混合装置可改善混合气体均匀性，提高气体混合的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 气体混合装置 混合管 混合腔 本实用新型 出口连接 螺旋结构 内壁 涡流 螺旋形结构 充分混合 管壁螺旋 混合气体 气体混合 行进过程 原料气体 导出管 均匀性 存储 行进 | ||
【主权项】：
1.一种气体混合装置，其特征在于，包括：混合管、与混合管出口连接的混合腔、与混合腔出口连接的导出管，混合管的内壁为螺旋结构。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
