[实用新型]一种阵列基板、显示面板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201721682366.7 申请日: 2017-12-06
公开(公告)号: CN207489875U 公开(公告)日: 2018-06-12
发明(设计)人: 陈江博;宋泳锡;侯文军;赵磊;王国英 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;G02F1/1362
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请公开了一种阵列基板、显示面板及显示装置,用以减少制作阵列基板中所需的掩膜工序的次数,从而简化了阵列基板的制作工艺,减少了显示面板的厚度,同时减少了或避免了发光层发出的光照射到阵列基板中薄膜晶体管,从而提高了薄膜晶体管的光照稳定性,优化了显示面板的性能。本申请提供的阵列基板,包括:衬底基板、多个薄膜晶体管和电致发光结构,及位于薄膜晶体管和衬底基板之间的遮光结构;其中,薄膜晶体管包括:有源层,及位于有源层远离衬底基板一侧的源漏极层;电致发光结构包括:用于驱动像素单元的第一电极,以及与第一电极相对设置的第二电极;其中,第一电极与遮光结构或有源层为通过同一掩膜版形成的同层结构。
搜索关键词: 阵列基板 薄膜晶体管 显示面板 衬底基板 第一电极 源层 电致发光 显示装置 遮光结构 光照稳定性 第二电极 相对设置 像素单元 制作工艺 发光层 光照射 掩膜版 源漏极 同层 掩膜 申请 驱动 制作 优化
【主权项】:
一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底基板、设置于所述衬底基板同侧的多个薄膜晶体管和电致发光结构,及位于所述薄膜晶体管和所述衬底基板之间的遮光结构;其中,所述薄膜晶体管包括:位于所述遮光结构远离所述衬底基板一侧的有源层,及位于所述有源层远离所述衬底基板一侧的源漏极层;所述电致发光结构包括:用于驱动像素单元的第一电极,以及与所述第一电极相对设置的第二电极;其中,所述第一电极与所述遮光结构或所述有源层为通过同一掩膜版形成的同层结构。
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