[实用新型]一种双玻组件的层压工装有效
| 申请号： | 201721695092.5 | 申请日： | 2017-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN207425883U | 公开（公告）日： | 2018-05-29 |
| 发明（设计）人： | 胡德政;郭琦;李廉炳 | 申请（专利权）人： | 君泰创新（北京）科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/048 | 分类号： | H01L31/048;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人： | 周放;逄京喜 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京经*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种双玻组件的层压工装，包括矩形框架，所述矩形框架的顶面凸出双玻组件的上表面设定高度，所述矩形框架的内壁距离所述双玻组件边缘设定长度，所述矩形框架的内壁上设有斜面；本实用新型通过将矩形框架的内壁设置为距离双玻组件设定长度的结构，且在内壁上设置斜面，可以保证在层压双玻组件的过程中，排气顺畅，降低气泡出现的概率，同时将矩形框架的内壁设置为凸出双玻组件的上表面的结构，可以有效防止层压时，双玻组件的边缘发生溢胶，避免出现玻璃移位等情况，与现有技术相比，本实用新型可以有效提高层压双玻组件的良率，改善层压工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 双玻组件 矩形框架 层压 本实用新型 内壁 凸出 上表面 工装 层压工艺 内壁距离 移位 顶面 良率 排气 溢胶 玻璃 概率 保证 | ||
【主权项】：
1.一种双玻组件的层压工装，其特征在于，包括矩形框架(1)，所述矩形框架(1)的顶面凸出双玻组件(2)的上表面设定高度，所述矩形框架(1)的内壁距离所述双玻组件(2)边缘设定长度，所述矩形框架(1)的内壁上设有斜面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
