[实用新型]一种电解池液位控制系统有效
| 申请号： | 201721718333.3 | 申请日： | 2017-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN207672150U | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 李斌;王洪健;黄贺南;杨晓光;齐建爽 | 申请（专利权）人： | 江铜华北（天津）铜业有限公司 |
| 主分类号： | C25D21/14 | 分类号： | C25D21/14;C25D21/12;C25D17/00 |
| 代理公司： | 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 | 代理人： | 丁晓玥 |
| 地址： | 300405 天津市*** | 国省代码： | 天津;12 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供了一种电解池液位控制系统，靠近上端的控制管的圆周壁上开有排液孔，控制管能够套在电解池内的出液管上，控制管的内径大于出液管的外径，靠近上端的出液管的圆周壁上开有出液口，控制管套在出液管上后，控制管的下端与电解池的池底接触，排液孔的高度高于出液口的高度，排液孔位于电解池内部。本实用新型结构简单、设计巧妙，操作简便，能够快速的实现电解池液位的控制，提高电解池的电解液面，解决了生产中的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 电解池 控制管 出液管 排液孔 液位控制系统 本实用新型 出液口 圆周壁 上端 套在 电解液面 下端 液位 生产 | ||
【主权项】：
1.一种电解池液位控制系统，其特征在于：包括控制管(3)，靠近上端的控制管(3)的圆周壁上开有排液孔(301)，控制管(3)能够套在电解池(1)内的出液管(2)上，控制管(3)的内径大于出液管(2)的外径，靠近上端的出液管(2)的圆周壁上开有出液口(201)，控制管(3)套在出液管(2)上后，控制管(3)的下端与电解池(1)的池底接触，排液孔(301)的高度高于出液口(201)的高度，排液孔(301)位于电解池(1)内部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江铜华北（天津）铜业有限公司，未经江铜华北（天津）铜业有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201721718333.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于电镀溶液中银浓度的持续监控装置
- 下一篇：一种滚动支架抛光设备
