[实用新型]等离子化学气相沉积装置

摘要

本实用新型涉及化学气相沉积领域，公开了一种等离子化学气相沉积装置。本实用新型中，该等离子化学气相沉积装置，包括阳极、阴极及至少一个调节电路；所述阳极上连接有基底；通过调节所述调节电路的阻抗，能够调节所述阳极的电压，从而控制等离子对所述基底的轰击能量，以便改善基底表面材料的特性，提高表面结合力。相对于传统技术而言，本实施方式的装置无需设置多个射频电源，即可实现对离子轰击能量的调节，提高产品性能，大大降低了设备的成本以及设备的复杂性。

主权项

1.一种等离子化学气相沉积装置，其特征在于，包括阳极、阴极及至少一个调节电路；所述阳极上连接有基底；通过调节所述调节电路的阻抗，能够调节所述阳极的电压，以控制等离子对所述基底的轰击能量。