[实用新型]一种晶圆检测装置有效
申请号: | 201721722807.1 | 申请日: | 2017-12-12 |
公开(公告)号: | CN207503936U | 公开(公告)日: | 2018-06-15 |
发明(设计)人: | 董新杰 | 申请(专利权)人: | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 俞涤炯 |
地址: | 430205 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种晶圆检测装置,其属于半导体加工领域的技术,包括:卡盘,所述卡盘设置于所述晶圆下部支撑外环和支撑内环,所述支撑外环和所述支撑内环同心设置且设置于所述卡盘下部,所述支撑外环与所述支撑内环之间通过沿所述支撑外环径向设置的连接杆相连;位置传感器,所述位置传感器设置于所述连接杆的下方,且位于所述支撑外环和所述支撑内环之间。该技术方案的有益效果是:本装置结构简单且可靠,能够精确的侦测湿法刻蚀设备上的晶圆,减少了晶圆的损毁的风险,从而能够保证产品的质量,提高生产效率。 1 | ||
搜索关键词: | 支撑 内环 晶圆 卡盘 位置传感器 圆检测装置 连接杆 种晶 半导体加工领域 湿法刻蚀设备 径向设置 生产效率 同心设置 装置结构 损毁 侦测 保证 | ||
【主权项】:
1.一种晶圆检测装置,其特征在于,包括:
卡盘,所述卡盘位于所述晶圆下方;
支撑外环和支撑内环,所述支撑外环和所述支撑内环同心设置,所述支撑外环与所述支撑内环之间通过沿所述支撑外环径向设置的连接杆相连,所述支撑内环和所述支撑外环设置于所述卡盘下方;
位置传感器,所述位置传感器设置于所述连接杆的下方,且位于所述支撑外环和所述支撑内环之间。
2.根据权利要求1所述的晶圆检测装置,其特征是,所述支撑外环和所述支撑内环之间设有沿所述支撑内环周向设置的弹性元件,所述弹性元件一端与所述连接杆相连。3.根据权利要求2所述的晶圆检测装置,其特征是,所述弹性元件为回复弹簧。4.根据权利要求3所述的晶圆检测装置,其特征是,所述连接杆包括第一连接杆、第二连接杆、第三连接杆、第四连接杆、第五连接杆以及第六连接杆,所述第一连接杆、所述第二连接杆、所述第三连接杆、所述第四连接杆、所述第五连接杆以及所述第六连接杆沿所述支撑外环周向均匀分布。5.根据权利要求4所述的晶圆检测装置,其特征是,所述第一连接杆、所述第三连接杆、所述第四连接杆以及所述第六连接杆均连有所述回复弹簧。6.根据权利要求1所述的晶圆检测装置,其特征是,所述位置传感器为红外传感器。7.根据权利要求1所述的晶圆检测装置,其特征是,所述位置传感器为电感传感器。8.一种湿法刻蚀设备,其特征在于,所述湿法刻蚀设备顶部设有如权利要求1~7任意一项所述晶圆检测装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉新芯集成电路制造有限公司,未经武汉新芯集成电路制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721722807.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于晶圆片单面刷洗机的槽体
- 下一篇:多腔室晶圆处理设备
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造