[实用新型]一种单工位双磨料抛光机有效

专利信息
申请号: 201721741172.X 申请日: 2017-12-14
公开(公告)号: CN207710534U 公开(公告)日: 2018-08-10
发明(设计)人: 刘训海 申请(专利权)人: 苏州普茨迈精密设备有限公司
主分类号: B24B31/116 分类号: B24B31/116;B24B31/12;B24B27/00;B24B41/06;B24C3/32;B24C9/00;B24C7/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种单工位双磨料抛光机,包括整机架构、抛光机构、流体磨料装置、液体磨料装置、操控机构、附属装置;所述整机构架包括底座、框架、机罩;所述框架前部上下配有上梁架和工作台,所述工作台上装有抛光机构;所述框架内后部左右配置有流体磨料装置和液体磨料装置;所述流体磨料装置与液体磨料装置共用一套抛光机构,通过操控机构分别独立形成流体磨料抛光循环和液体磨料抛光循环,或者通过操控机构联合形成流体磨料和液体磨料的交替抛光循环;本新型采用流体磨料和液体磨料两种抛光磨料,可分别独立或者两种磨料组合对工件型腔进行抛光处理;扩大抛光设备的应用领域,提高精密工件的加工处理精度,提高抛光机的产能及效率。
搜索关键词: 流体磨料 液体磨料 磨料 操控机构 抛光机构 抛光循环 抛光机 单工位 本实用新型 独立形成 附属装置 工件型腔 精密工件 框架前部 抛光处理 抛光磨料 抛光设备 整机构架 装置共用 左右配置 工作台 产能 机罩 梁架 底座 整机 架构 联合
【主权项】:
1.一种单工位双磨料抛光机,其特征在于,包括整机架构、抛光机构、流体磨料装置、液体磨料装置、操控机构、附属装置;所述整机构架包括底座、框架、机罩、工作台、上梁架和调整脚;所述底座下设置有四个调整脚,底座上焊接设置有框架,所述框架外部设置有带有多个维修门的机罩,所述框架内前部分,上下水平配置有上梁架和工作台,所述工作台上装配有抛光机构;所述框架内后部分,左右分别配置有流体磨料装置和液体磨料装置;所述流体磨料装置与液体磨料装置共用一套抛光机构,通过操控机构分别独立形成流体磨料抛光循环和液体磨料抛光循环,或者通过操控机构联合形成流体磨料和液体磨料的交替抛光循环;所述抛光机构包括压紧缸、压紧头、工作台料口、磨料管;所述压紧缸固定于上梁架上,所述压紧缸下方设置有压紧头,所述压紧头上设置有压头出液孔和气管接口,所述压头出液孔通过磨料管与液体料缸下端的吸料阀连通,所述磨料管上装配有计量器和压力传感器;所述气管通过气阀与储气包连通;所述工作台与压紧头相对的位置设置有工作台料口,所述工作台料口通过磨料管经过三通料阀分别与磨料筒和液料罐连通;所述三通料阀在操控机构控制下,分别用于流体磨料抛光循环或者液体磨料抛光循环,所述工作台料口上置放有产品工装。
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