[实用新型]金属粉末制备装置有效
| 申请号： | 201721742884.3 | 申请日： | 2017-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN207806632U | 公开（公告）日： | 2018-09-04 |
| 发明（设计）人： | 李爱红;王力强 | 申请（专利权）人： | 广州纳联材料科技有限公司 |
| 主分类号： | B22F9/08 | 分类号： | B22F9/08 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 郑彤 |
| 地址： | 511447 广东省广州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种金属粉末制备装置，包括进料装置、雾化喷嘴、还原气喷环和雾化塔，所述雾化喷嘴用于喷射雾化流体，所述雾化喷嘴设置在所述进料装置的下方，所述还原气喷环用于喷射还原性气体，所述还原气喷环设置在所述雾化喷嘴的下方，所述雾化塔设置在所述还原气喷环的下方。本实用新型提供的金属粉末制备装置与方法所制备的金属粉末的氧含量比原来通过单纯的气雾法或水雾法所得到的金属粉末均降低了60％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 雾化喷嘴 还原气 喷环 金属粉末制备 本实用新型 金属粉末 进料装置 雾化塔 还原性气体 喷射雾化 含量比 气雾法 水雾法 流体 制备 喷射 | ||
【主权项】：
1.一种金属粉末制备装置，其特征在于，包括进料装置、雾化喷嘴、还原气喷环和雾化塔；所述进料装置的底部设有进料孔；所述雾化喷嘴用于喷射雾化流体，所述雾化喷嘴设置在所述进料装置的下方；所述还原气喷环用于喷射还原性气体，所述还原气喷环设置在所述雾化喷嘴的下方，所述还原气喷环包括喷环本体，所述喷环本体具有供金属熔液通过的漏液孔，所述喷环本体内设有气流通道，所述气流通道包括沿气流方向依次设置的气腔和出气通道，所述气腔及所述出气通道为围绕所述漏液孔设置的环状结构；所述雾化塔具有雾化内腔，所述雾化塔的两端分别设有雾化塔入口和雾化塔出口，所述雾化塔设置在所述还原气喷环的下方，所述进料装置通过所述雾化塔入口、所述雾化喷嘴、所述漏液孔和所述雾化塔入口与所述雾化内腔连通。
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