[实用新型]一种光学衰减片镀膜结构有效

专利信息
申请号: 201721751993.1 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN207976599U 公开(公告)日: 2018-10-16
发明(设计)人: 欧杰辉 申请(专利权)人: 深圳市飞莱特科技有限公司
主分类号: G02B1/14 分类号: G02B1/14
代理公司: 深圳市中联专利代理有限公司 44274 代理人: 李俊
地址: 518000 广东省深圳市龙*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型所涉及一种光学衰减片镀膜结构,其包括基材层,设置于基材层上面的功能层;所述功能层是由氧化钽层与金属铬层组成,所述氧化钽层位于下面,而金属铬层位于上面;所述的金属铬层上设置有二氧化硅层。该二氧化硅层能防止金属铬层表面成被氧化或被刮伤的现象发生,从而达到防止金属铬层被氧化或被刮伤的目的。
搜索关键词: 金属铬层 二氧化硅层 光学衰减片 镀膜结构 氧化钽层 功能层 基材层 刮伤 本实用新型
【主权项】:
1.一种光学衰减片镀膜结构,其包括基材层,设置于基材层上面的功能层;其特征在于:所述功能层是由氧化钽层与金属铬层组成,所述氧化钽层位于下面,而金属铬层位于上面;所述的金属铬层上设置有二氧化硅层。
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