[实用新型]无硅离型膜有效
| 申请号： | 201721813880.X | 申请日： | 2017-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN207736888U | 公开（公告）日： | 2018-08-17 |
| 发明（设计）人： | 李刚 | 申请（专利权）人： | 扬州万润光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B32B27/06 | 分类号： | B32B27/06;B32B27/36;B32B7/06;B32B3/30;B32B33/00 |
| 代理公司： | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人： | 郑自群 |
| 地址： | 211400 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种无硅离型膜，包括依次叠设的防静电涂层、基材层、离型层和无硅涂布层，所述离型层的上部边缘开设有长方形凹槽，所述离型层的下部边缘开设有半圆形凹槽，所述长方形凹槽与半圆形凹槽错开排列。结构简单，易于实现，在基材层底部涂了防静电层，可以很好的防静电；基材层采用PET光学级聚酯薄膜使离型膜具有低雾度和高透光率等性能；无硅涂布的设置，解决了对硅敏感的电子材料加工需要使用离型膜的需求，同时也杜绝了硅油残留污染环境的问题；最后，离型层的凹槽设置可以减轻重量并且起到很好的抗压效果。 | ||
| 搜索关键词： | 离型层 离型膜 基材层 半圆形凹槽 长方形凹槽 聚酯薄膜 本实用新型 防静电涂层 凹槽设置 错开排列 电子材料 防静电层 高透光率 硅油残留 上部边缘 下部边缘 低雾度 防静电 光学级 涂布层 叠设 抗压 敏感 加工 | ||
【主权项】：
1.一种无硅离型膜，其特征在于：包括依次叠设的防静电涂层、基材层、离型层和无硅涂布层，所述离型层的上部边缘开设有长方形凹槽，所述离型层的下部边缘开设有半圆形凹槽，所述长方形凹槽与半圆形凹槽错开排列。
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