[实用新型]一种基质培与水培一体的栽培装置有效
| 申请号： | 201721820642.1 | 申请日： | 2017-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN207978601U | 公开（公告）日： | 2018-10-19 |
| 发明（设计）人： | 孙映波;于波;赵超艺;黄丽丽;张佩霞;刘海林;陈金峰;邹春萍;廖庆贤;李宝华 | 申请（专利权）人： | 广东省农业科学院环境园艺研究所 |
| 主分类号： | A01G31/02 | 分类号： | A01G31/02 |
| 代理公司： | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人： | 陈娟 |
| 地址： | 510640 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种基质培与水培一体的栽培装置，适用于盆栽(木本)花卉的基质培和水培一体化栽培，包括环状的围壁和设置在围壁内的底座，底座包括四个环形阵列布置的支撑组件，每个支撑组件从底座的边缘向中间延伸，每个支撑组件至少包括由下至上设置的小径支撑台和大径支撑台，小径支撑台内边缘距离底座中心的距离小于大径支撑台边缘距离底座中心的距离，支撑组件高于底座底面从而形成存水腔。本实用新型中，小直径基质培花盆可以放置在小径支撑台表面，而大直径基质培花盆放置在大径支撑台表面；放置之后，存水腔通过装入培养液，根系从基质培花盆底部的孔中伸出后到达培养液进行吸收；达到了同一装置可以进行基质/水培一体化的栽培效果。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑台 基质培 支撑组件 水培 大径 底座 小径 培养液 本实用新型 底座中心 栽培装置 存水腔 花盆 围壁 大直径基质 边缘距离 底座底面 花盆放置 环形阵列 同一装置 栽培效果 一体化 盆栽 内边缘 根系 基质 装入 伸出 栽培 花卉 延伸 吸收 | ||
【主权项】：
1.一种基质培与水培一体的栽培装置，包括环状的围壁(1)和设置在围壁(1)内的底座(2)，其特征在于：所述底座(2)包括四个环形阵列布置的支撑组件，每个支撑组件从底座(2)的边缘向中间延伸，每个支撑组件至少包括由下至上设置的小径支撑台(3)和大径支撑台(4)，小径支撑台(3)内边缘距离底座(2)中心的距离小于大径支撑台(4)边缘距离底座(2)中心的距离，所述支撑组件高于底座(2)底面从而形成存水腔(5)。
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