[实用新型]激光打标机及其真空定位装置有效

专利信息
申请号: 201721828196.9 申请日: 2017-12-22
公开(公告)号: CN207806895U 公开(公告)日: 2018-09-04
发明(设计)人: 许根夫;赵正毅;刘猛;成学平 申请(专利权)人: 深圳市杰普特光电股份有限公司
主分类号: B23K26/362 分类号: B23K26/362;B23K26/70
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 石佩
地址: 518100 广东省深圳市龙华新区观澜*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及一种激光打标机及其真空定位装置,包括基座、真空吸附台、多个挡块及滑钉。基座起支撑作用;真空吸附台安装于基座,并与基座之间形成真空腔,真空吸附台的表面开设有多个与真空腔连通的真空吸附孔;多个挡块安装于真空吸附台的表面,且多个挡块之间围绕形成限位部;多个滑钉安装于真空吸附台并位于限位部内,多个滑钉围绕形成定位部,且多个吸附孔中至少部分位于定位部内;其中,多个滑钉的顶端与真空吸附台表面之间的距离小于多个挡块的顶端与真空吸附台表面之间的距离。上述激光打标机及其真空定位装置具有生产效率高的特点。
搜索关键词: 真空吸附台 挡块 滑钉 激光打标机 定位装置 定位部 限位部 真空腔 本实用新型 真空吸附孔 表面开设 生产效率 支撑作用 吸附孔 连通
【主权项】:
1.一种真空定位装置,其特征在于,包括:起支撑作用的基座;安装于所述基座的真空吸附台,与所述基座之间形成真空腔,所述真空吸附台的表面开设有多个与所述真空腔连通的真空吸附孔;多个挡块,安装于所述真空吸附台的表面,且所述多个挡块之间围绕形成限位部;及多个滑钉,安装于所述真空吸附台并位于所述限位部内,所述多个滑钉围绕形成定位部,且所述多个吸附孔中至少部分位于所述定位部内;其中,所述多个滑钉的顶端与所述真空吸附台表面之间的距离小于所述多个挡块的顶端与所述真空吸附台表面之间的距离。
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