[实用新型]夹具及等离子体沉积设备有效
申请号: | 201721829598.0 | 申请日: | 2017-12-25 |
公开(公告)号: | CN207727149U | 公开(公告)日: | 2018-08-14 |
发明(设计)人: | 张志强;张二辉;丁伟 | 申请(专利权)人: | 上海稷以科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;C23C16/458 |
代理公司: | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人: | 杨楷;毛立群 |
地址: | 200241 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及气相沉积技术领域,公开了一种夹具以及设置有该夹具的等离子体沉积设备。夹具包括:承接件,承接件为多个且隔开地设置;支撑板,支撑板为多个且承接件位于支撑板之间;在承接件上设置有限位件,样品沿竖直方向被限位件固定在两个承接件之间。本实用新型使样品垂直于电极板放置在夹具上,能够改善样品表面等离子体气相沉积的均匀性并提高沉积效率。 | ||
搜索关键词: | 夹具 承接件 支撑板 等离子体沉积设备 本实用新型 等离子体气相沉积 被限位件 沉积效率 气相沉积 样品表面 电极板 均匀性 竖直 位件 垂直 | ||
【主权项】:
1.一种夹具(1),用于保持并固定样品,其特征在于,所述夹具(1)包括:承接件(2),所述承接件(2)为多个且隔开地设置;支撑板(3),所述支撑板(3)为多个且所述承接件(2)位于所述支撑板(3)之间;在所述承接件(2)上设置有限位件(4),所述样品沿竖直方向被所述限位件(4)固定在两个所述承接件(2)之间。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的