[实用新型]一种提高HMDS喷涂均匀性的结构有效
| 申请号： | 201721833112.0 | 申请日： | 2017-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN208266058U | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 曾艳新;刘伟;任思雨;苏君海;李建华 | 申请（专利权）人： | 信利（惠州）智能显示有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 邓聪权 |
| 地址： | 516029 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及光刻领域，公开了一种提高HMDS喷涂均匀性的结构，在所述HMDS的喷涂腔室内设置若干个HMDS喷嘴，各所述HMDS喷嘴与HMDS供给管路连接。采用该技术方案有利于提高大尺寸玻璃基板HMDS喷涂均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 喷涂均匀 喷嘴 大尺寸玻璃基板 本实用新型 供给管路 喷涂腔 光刻 室内 | ||
【主权项】：
1.一种提高HMDS喷涂均匀性的结构，其特征在于，在所述HMDS的喷涂腔室内设置若干个HMDS喷嘴，各所述HMDS喷嘴与HMDS供给管路连接，所述HMDS供给管路上设有各所述HMDS喷嘴的控制阀门，用于控制所述HMDS喷嘴开启、关闭及HMDS流量调节。
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