[实用新型]光阻涂布槽清洗装置有效
| 申请号： | 201721842397.4 | 申请日： | 2017-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN207857493U | 公开（公告）日： | 2018-09-14 |
| 发明（设计）人： | 徐猛;黄志凯 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | B08B9/093 | 分类号： | B08B9/093 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种光阻涂布槽清洗装置。所述光阻涂布槽清洗装置，包括：轨道，环绕一光阻涂布槽的外周设置；第一清洗组件，与第二清洗组件先后进入所述轨道，且能够沿所述轨道运动，用于向光阻涂布槽的槽壁喷射清洗液；第二清洗组件，连接所述轨道且能够沿所述轨道运动，用于向所述槽壁喷射气体，以干燥位于所述槽壁上的清洗液。本实用新型提高了光阻涂布槽的清洗效率，节省了光阻涂布槽清洗的人力成本；同时减少了因清洗光阻涂布槽造成的停机时间，提高了晶圆的生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光阻涂布 清洗装置 清洗组件 槽壁 本实用新型 轨道运动 清洗液 轨道 清洗 半导体制造技术 喷射气体 清洗效率 人力成本 生产效率 晶圆 停机 外周 喷射 环绕 | ||
【主权项】：
1.一种光阻涂布槽清洗装置，其特征在于，包括：轨道，环绕一光阻涂布槽的外周设置；第一清洗组件，与第二清洗组件先后进入所述轨道，且能够沿所述轨道运动，用于向光阻涂布槽的槽壁喷射清洗液；第二清洗组件，连接所述轨道且能够沿所述轨道运动，用于向所述槽壁喷射气体，以干燥位于所述槽壁上的清洗液。
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