[实用新型]一种外延片有效
申请号: | 201721844118.8 | 申请日: | 2017-12-26 |
公开(公告)号: | CN207624728U | 公开(公告)日: | 2018-07-17 |
发明(设计)人: | 宁如光 | 申请(专利权)人: | 南昌凯迅光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 330013 江西省南*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本实用新型提供的一种外延片,包括GaAs衬底,在GaAs衬底上依次外延生长缓冲层、AlGaAs/AlAs(DBR)反射层、n‑AlInP限制层、n‑AlGaInP波导层、突变MQW有源层、渐变MQW有源层、p‑AlGaInP波导层、p‑AlInP限制层和p‑GaP电流扩展层;突变MQW有源层和渐变MQW有源层材料为AlGaInP。本实用新型公开的一种外延片,通过对突变量子阱和渐变量子阱的组合设计,限制电子在量子阱结构中的快速移动,增强空穴载流子的移动能力,从而提高电子与空穴载流子的复合几率,能提高LED芯片的内量子发光效率。 | ||
搜索关键词: | 源层 外延片 渐变 突变 本实用新型 空穴载流子 波导层 量子阱 限制层 衬底 电流扩展层 量子阱结构 发光效率 复合几率 快速移动 外延生长 移动能力 组合设计 反射层 缓冲层 量子 | ||
【主权项】:
1.一种外延片,其特征在于:包括GaAs衬底(100),在所述GaAs衬底(100)上依次外延生长缓冲层(101)、AlGaAs/AlAs(DBR)反射层(102)、n‑AlInP限制层(103)、n‑AlGaInP波导层(104)、突变MQW有源层(105)、渐变MQW有源层(106)、p‑AlGaInP波导层(107)、p‑AlInP限制层(108)和p‑GaP电流扩展层(109);所述突变MQW有源层(105)和渐变MQW有源层(106)材料为AlGaInP。
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