[实用新型]一种制备三层减反射膜的PECVD设备

摘要

本实用新型涉及薄膜技术领域，尤其涉及一种制备三层减反射膜的PECVD设备。这种设备包括装载腔、工作腔、出料腔、用于运载晶片的石墨舟、用于驱动石墨舟的桨、氮气罐、氨气罐和硅烷罐。工作腔顶部安装有微波激发装置，底部安装有加热装置；工作腔上开设有进气通道，进气通道的一端通过内部安装有螺旋件的Y型管分别与氨气罐的出气口和硅烷罐出气口连接；氨气罐出气口和硅烷罐出气口上均安装有流量调节阀，流量调节阀与时间控制装置连接；进气通道的另一端连接开设有小孔并安装在工作腔底部的曝气管。本实用新型能够一次性制备出性能优异的三层减反射膜。

主权项

1.一种制备三层减反射膜的PECVD设备，包括装载腔（100）、工作腔（300）、出料腔（400）、用于运载晶片的石墨舟（500）以及用于驱动石墨舟（500）的桨，其特征在于：还包括特气罐（600），所述特气罐（600）包括氮气罐（610）、氨气罐（620）和硅烷罐（630）；所述工作腔（300）顶部安装有微波激发装置（310），底部安装有加热装置（320）；所述工作腔（300）上开设有进气通道（330），所述进气通道（330）的一端通过内部安装有螺旋件（341）的Y型管（340）分别与氨气罐的出气口（621）和硅烷罐出气口（631）连接；所述氨气罐出气口（621）和硅烷罐出气口（631）上均安装有流量调节阀（640），所述流量调节阀（640）与时间控制装置连接（650）；所述进气通道（330）的另一端连接开设有小孔的曝气管（350），所述曝气管（350）安装在工作腔（300）底部。