[实用新型]一种用于制备芯片失效分析样品的制样装置有效
| 申请号： | 201721873039.X | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN207742132U | 公开（公告）日： | 2018-08-17 |
| 发明（设计）人： | 庄丰安 | 申请（专利权）人： | 深圳宜特检测技术有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/2202 | 分类号： | G01N23/2202 |
| 代理公司： | 深圳市智胜联合知识产权代理有限公司 44368 | 代理人： | 李永华;张广兴 |
| 地址： | 518000 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提出一种用于制备可供扫描电容显微镜研究的芯片失效分析样品的制样装置，包括聚焦离子束、金属垫片、离子风扇、加热台和UV灯，待测试的芯片经由所述聚焦离子束切割得到芯片样品，将所述芯片样品粘贴在所述金属垫片上，所述离子风扇对所述金属垫片上的芯片样品进行吹拭以除去所述芯片样品表面沉积的离子，随后将所述金属垫片移送至所述加热台，所述加热台对所述芯片样品进行加热，所述UV灯对所述芯片样品进行照射，所述加热台与所述UV灯共同作用以在所述芯片样品的表面形成致密的氧化层。本实用新型提供的制样装置操作简单，制样完整精确，能有效地保证芯片失效分析结果的准确性，提高测试分析结果的精确度。 | ||
| 搜索关键词： | 芯片样品 金属垫片 加热台 芯片失效 制样装置 本实用新型 聚焦离子束 分析样品 离子风扇 制备 扫描电容显微镜 测试分析结果 致密 表面沉积 表面形成 氧化层 有效地 加热 粘贴 制样 离子 切割 照射 芯片 测试 保证 研究 | ||
【主权项】：
1.一种制样装置，用于制备可供扫描电容显微镜研究的芯片失效分析样品，其特征在于，所述制样装置包括聚焦离子束、金属垫片、离子风扇、加热台和UV灯，待测试的芯片经由所述聚焦离子束切割得到芯片样品，将所述芯片样品粘贴在所述金属垫片上，所述离子风扇对所述金属垫片上的芯片样品进行吹拭以除去所述芯片样品表面沉积的离子，随后将所述金属垫片移送至所述加热台，所述加热台对所述芯片样品进行加热，所述UV灯对所述芯片样品进行照射，所述加热台与所述UV灯共同作用以在所述芯片样品的表面形成致密的氧化层。
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