[实用新型]一种基于投影成像的轴形位公差测量仪有效
申请号: | 201721876731.8 | 申请日: | 2017-12-28 |
公开(公告)号: | CN207636038U | 公开(公告)日: | 2018-07-20 |
发明(设计)人: | 陈建魁;张舟 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G01B11/25 | 分类号: | G01B11/25 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 梁鹏;曹葆青 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型属于形位公差测量仪器相关领域,并公开了一种基于投影成像的轴形位公差测量仪,其包括底座、旋转支架,以及安装在旋转支架上的光源发生装置和成像检测装置,其中该底座用于实现整个装置的支撑和平行微调;该旋转支架实现光源发生装置和成像检测装置一致性的自由旋转;该光源发生装置用于向成像检测装置发射平行光以及实现装置自身位置标定;该成像检测装置实现轴投影图像的采集和形位公差的测量。通过本实用新型,能够以更为便捷和准确的方式实现轴的平行度的测量,并给出轴形位公差的衡量指标以指导轴的安装。 | ||
搜索关键词: | 成像检测装置 光源发生装置 旋转支架 轴形 本实用新型 公差测量 投影成像 底座 测量 形位公差测量 实现装置 投影图像 形位公差 自身位置 公差 平行度 平行光 标定 微调 采集 发射 衡量 支撑 | ||
【主权项】:
1.一种基于投影成像的轴形位公差测量仪,其特征在于,它包括底座(1)、旋转支架(2)、光源发生装置(3)和成像检测装置(4),其中:所述底座(1)放置在水平的基准底面上,并可通过螺钉组件调节自身的水平度,由此实现该基准底面与所述旋转支架之间相对位置的微调;所述旋转支架(2)沿着Z轴方向设置在所述底座(1)上,并在其下端和上端各自承载有所述光源发生装置(3)和所述成像检测装置(4);该旋转支架(2)自身具有Z轴自由度和绕着Z轴旋转的W自由度,由此根据待测量辊轴(6)的高度来调节在Z轴方向上的位置、以及在旋转时带动所述光源发生装置(3)和成像检测装置(4)执行同步转动;所述光源发生装置(3)包括杆状本体、以及设置在该杆状本体上的限位孔(7)、平行光源(8)和测距组件(9),其中该杆状本体沿着垂直于所述旋转支架(2)的方向具有水平伸长自由度r,该限位孔(7)用于确保待测量辊轴(6)的轴线与此限位孔的轴线处于同轴或平行状态,该平行光源(8)用于朝向待测量辊轴(6)投射可产生投影的平行光束;此外,该测距组件(9)的数量为多个,它们被划分为设置在所述杆状本体下表面的第一组传感器和设置在所述杆状本体上表面的第二组传感器,并用于测量整个光源发生装置处于不同位置状态时至指定目标之间的各自距离;所述成像检测装置(4)包括安装件、以及设置在该安装件上的相机(10)和投影板(11),其中该安装体同样沿着垂直于所述旋转支架(2)的方向具有水平拉伸自由度q,且其保持与所述水平伸长自由度r相平行;该投影板(11)用于显示所述平行光源(8)对所述待测量辊轴(6)所形成的投影图像,该相机(10)则对投影图像进行拍摄采集。
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