[实用新型]制备具有双周期纳米结构细胞衬底的激光干涉光刻系统有效
| 申请号： | 201721895933.7 | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN207833218U | 公开（公告）日： | 2018-09-07 |
| 发明（设计）人： | 刘鹤峰;王作斌;刘梦楠;翁占坤;宋正勋 | 申请（专利权）人： | 长理纳米生物技术（长春）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/10 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所(普通合伙) 22210 | 代理人： | 荆喆 |
| 地址： | 130000 吉林省*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种制备具有双周期纳米结构细胞衬底的激光干涉光刻系统，包括：激光器，用于发出激光；分光系统，包括刻有周期性纳米柱阵列元件、周期性纳米孔阵列元件或光栅阵列元件的光刻胶或石英，用于将射入的激光均分成光束阵列；其中，多光束阵列分为入射光束和调制光束；光束整形系统，包括高反镜和调制器；高反镜将入射光束和反射光束反射至曝光系统；其中，入射光束和反射光束进入曝光系统前还经过调制器，调制器调整光束光强和偏振角度；曝光系统，对射入的光束进行曝光处理；样品台，其布设在所述曝光系统下方，用于提供光束相交并形成干涉图案的平台。本实用新型的激光干涉光刻系统具有系统简单、制造成本低、加工效率高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光系统 激光干涉光刻系统 入射光束 本实用新型 反射光束 纳米结构 调制器 高反镜 双周期 衬底 射入 制备 激光 光束整形系统 调制器调整 纳米孔阵列 纳米柱阵列 细胞 调制光束 分光系统 干涉图案 光束阵列 光栅阵列 加工效率 曝光处理 制造成本 激光器 多光束 光刻胶 样品台 光强 偏振 石英 反射 相交 | ||
【主权项】：
1.一种制备具有双周期纳米结构细胞衬底的激光干涉光刻系统，其特征在于，包括：激光器，用于发出激光；分光系统，包括刻有周期性纳米柱阵列元件、周期性纳米孔阵列元件或光栅阵列元件的光刻胶或石英，用于将射入的激光均匀分成多光束阵列；其中，所述多光束阵列分为入射光束和调制光束；光束整形系统，包括高反镜和调制器；所述高反镜将入射光束和反射光束反射至曝光系统；其中，所述入射光束和反射光束进入曝光系统前还经过调制器，所述调制器调整入射光束和反射光束的光强和偏振角度；曝光系统，对射入的光束进行曝光处理；样品台，其布设在所述曝光系统下方，用于提供光束相交并形成干涉图案的平台。
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