[外观设计]等离子处理装置用基座有效
| 申请号： | 201730079422.7 | 申请日： | 2017-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN304265916S | 公开（公告）日： | 2017-09-01 |
| 发明（设计）人： | 一野贵雅;佐藤浩平;中本和则 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | 15-99 | 分类号： | 15-99 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 丁文蕴,许凯 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 1．本外观设计产品的名称等离子处理装置用基座。2．本外观设计产品的用途本产品为一种基座，其使用在制造半导体中的等离子处理装置上，用于从等离子中保护试料台。3．本外观设计产品的设计要点本外观设计产品的形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片设计2立体图2。5．指定基本设计设计2。6．在设计1和设计2使用状态参考图中，C‑半导体晶圆，D‑本外观设计产品，E‑环，F‑环壳，G‑绝缘环，H‑电极头。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 基座 | ||
【主权项】：
暂无信息
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