[外观设计]双离子束共溅射薄膜设备真空室有效
| 申请号： | 201730500752.9 | 申请日： | 2017-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN304642655S | 公开（公告）日： | 2018-05-22 |
| 发明（设计）人： | 雷念程 | 申请（专利权）人： | 雷念程 |
| 主分类号： | 15-99 | 分类号： | 15-99 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 102101 北京市延庆康*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 1、外观设计产品的名称：双离子束共溅射薄膜设备真空室。2、外观设计产品的用途：用于制备真空薄膜。3、外观设计的设计要点：产品的整体和局部形状。4、最能表明设计要点的图片：立体图。 | ||
| 搜索关键词： | 离子束 溅射 薄膜 设备 真空 | ||
【主权项】：
暂无信息
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