[发明专利]用于电子工业的基于亚砜/二醇醚的溶剂在审
申请号: | 201780000588.2 | 申请日: | 2017-01-20 |
公开(公告)号: | CN108139693A | 公开(公告)日: | 2018-06-08 |
发明(设计)人: | 蒋奇;姜鑫;任华;金應圭;牟建海;大场薰 | 申请(专利权)人: | 陶氏环球技术有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42;C11D7/50 |
代理公司: | 北京坤瑞律师事务所 11494 | 代理人: | 吴培善;王国祥 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及尤其适用于从显示器/半导体衬底或电子加工设备去除光致抗蚀剂和聚(酰胺酸)/聚酰亚胺的溶剂,其主要由以下各项组成:(A)第一组分,其由亚砜,例如DMSO组成;(B)第二组分,其由二醇醚,例如乙二醇单丁基醚组成;以及(C)第三组分,其由以下各项中的至少一个组成:N‑甲酰基吗啉、N,N‑二甲基丙酰胺、3‑甲氧基‑N,N‑二甲基丙酰胺、磷酸三乙酯、N,N‑二甲基乙酰胺、N,N‑二乙基乙酰胺、N,N‑二乙基丙酰胺、N‑甲基乙酰胺、N‑甲基丙酰胺、N‑乙基乙酰胺以及N‑乙基丙酰胺。 | ||
搜索关键词: | 丙酰胺 二醇醚 二甲基 溶剂 亚砜 电子加工设备 二甲基乙酰胺 二乙基乙酰胺 光致抗蚀剂 甲基乙酰胺 磷酸三乙酯 乙基乙酰胺 单丁基醚 甲基丙酰 聚酰亚胺 二乙基 甲氧基 甲酰基 乙二醇 酰胺酸 电子工业 衬底 吗啉 去除 乙基 显示器 半导体 | ||
【主权项】:
一种溶剂,其基本上由以下各项组成:(A)第一组分,其由亚砜组成;(B)第二组分,其由二醇醚组成;以及(C)第三组分,其由以下各项中的至少一个组成:N‑甲酰基吗啉、N,N‑二甲基丙酰胺、3‑甲氧基‑N,N‑二甲基丙酰胺、磷酸三乙酯、N,N‑二甲基乙酰胺、N,N‑二乙基乙酰胺、N,N‑二乙基丙酰胺、N‑甲基乙酰胺、N‑甲基丙酰胺、N‑乙基乙酰胺以及N‑乙基丙酰胺。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陶氏环球技术有限责任公司,未经陶氏环球技术有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780000588.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:光致抗蚀剂剥离液
- 下一篇:曝光装置、曝光方法以及平面显示器制造方法