[发明专利]涂布剂和涂布膜有效

专利信息
申请号: 201780000850.3 申请日: 2017-02-22
公开(公告)号: CN107429104B 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 足立慎司;原田铁也;北岛裕;田鹤葵;山田裕树 申请(专利权)人: 哈利玛化成株式会社
主分类号: C09D133/00 分类号: C09D133/00;C09D4/00;C09D4/06;C09D5/38;C09D151/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 钟晶;陈彦
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种涂布剂,其为含有金属微粒、分散介质、金属微粒分散剂和粘合剂的涂布剂,金属微粒分散剂含有单体或低聚物,所述单体或低聚物具有两个以上的活性能量固化基团和至少一个羧基,粘合剂含有在侧链具有(甲基)丙烯酰基的(甲基)丙烯酸树脂粘合剂,(甲基)丙烯酸树脂粘合剂为单体成分的反应物,所述单体成分不含有含阴离子性基团的单体、或以小于5质量%的比例含有含阴离子性基团的单体。
搜索关键词: 涂布剂 涂布膜
【主权项】:
1.一种涂布剂,其为含有金属微粒、分散介质、金属微粒分散剂和粘合剂的涂布剂,其特征在于,所述金属微粒为金属氧化物的微粒,所述金属微粒分散剂含有单体或低聚物,所述单体或低聚物具有两个以上的活性能量固化基团和至少一个羧基,所述粘合剂含有在侧链具有(甲基)丙烯酰基的(甲基)丙烯酸树脂粘合剂,所述(甲基)丙烯酸树脂粘合剂为单体成分的反应物,所述单体成分以小于5质量%的比例含有含阴离子性基团的单体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈利玛化成株式会社,未经哈利玛化成株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780000850.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top