[发明专利]抗反射膜有效

专利信息
申请号: 201780000863.0 申请日: 2017-03-09
公开(公告)号: CN107635765B 公开(公告)日: 2018-12-04
发明(设计)人: 宋仁永;边真锡;金芙敬;张锡勋;张影来;吴诚浚 申请(专利权)人: 株式会社LG化学
主分类号: B32B7/02 分类号: B32B7/02;B32B27/08;C09D5/00;B32B27/18;G02B1/113;G02B1/11;G02B5/18;C08L33/10
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 郑毅;赵丹
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 本文公开了抗反射膜,其包括:硬涂层;和低折射层,所述低折射层包含粘合剂树脂以及分散于粘合剂树脂中的中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒,其中所述低折射层包括包含全部实心无机纳米颗粒的至少70体积%的第一层和包含全部中空无机纳米颗粒的至少70体积%的第二层,并且在使用由一般方程式1表示的柯西模型对包括在所述低折射层中的所述第一层或/和所述第二层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度进行拟合时,其满足预定的条件。
搜索关键词: 反射
【主权项】:
1.一种抗反射膜,包括:硬涂层;和低折射层,所述低折射层包含粘合剂树脂以及分散于所述粘合剂树脂中的中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒,其中所述低折射层包括包含全部实心无机纳米颗粒的至少70体积%的第一层和包含全部中空无机纳米颗粒的至少70体积%的第二层,其中所述第一层定位为比所述第二层更靠近所述硬涂层与所述低折射层之间的界面,并且在使用由以下一般方程式1表示的柯西模型对包括在所述低折射层中的所述第二层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度进行拟合时,所述第二层满足以下条件:A为1.0至1.50,B为0至0.007,并且C为0至1×10‑3:[一般方程式1]在一般方程式1中,n(λ)为波长为λ时的折射率,λ在300nm至1800nm的范围内,以及A、B和C为柯西参数。
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