[发明专利]化妆品基材以及含有该化妆品基材的化妆品有效
申请号: | 201780001611.X | 申请日: | 2017-01-17 |
公开(公告)号: | CN107613959B | 公开(公告)日: | 2019-11-01 |
发明(设计)人: | 吉冈正人;本间悠太;富久翔太 | 申请(专利权)人: | 株式会社成和化成 |
主分类号: | A61K8/898 | 分类号: | A61K8/898;A61Q5/12;A61Q19/00;C08G77/26 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 葛凡 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种化妆品基材、以及含有该化妆品基材的化妆品,所述化妆品基材对毛发给予有光泽的亮泽、良好的润滑性、不发粘的保湿感,能够对皮肤赋予光滑性、不发粘的湿润感,还具有作为形成稳定的乳化物的乳化剂的性质、粉体分散能力。利用以特定的比例使硅烷化氨基酸与硅烷化合物反应而得到的硅烷化氨基酸/硅烷化合物共聚组合体构成化妆品基材。另外,含有该化妆品基材而构成化妆品。硅烷化氨基酸的氨基酸部分优选碱性氨基酸,特别优选精氨酸。化妆品中的硅烷化氨基酸/硅烷化合物共聚物的含量优选化妆品总量的0.01质量%~20质量%的范围。 | ||
搜索关键词: | 化妆品 基材 以及 含有 | ||
【主权项】:
1.一种化妆品基材,其特征在于,包含硅烷化氨基酸/硅烷化合物共聚物,所述硅烷化氨基酸/硅烷化合物共聚物具有下述的通式(Ia)、(Ib)或(Ic)所表示的结构单元U以及下述的通式(Id)或(Ie)所表示的结构单元W,结构单元W:结构单元U以摩尔比计为1:5~1:150的范围,式(Ia)、(Ib)及(Ic)中,R2表示羟基或在基团中任选包含氮、硫、卤素的碳数1~20的烷基,各R2分别相同或不同,式(Id)及(Ie)中,R1表示羟基或碳数1~3的烷基,各R1分别相同或不同,A为将Si与N键合的2价基团,表示选自RB、*RBOCH2CH(OH)CH2、*RBS、*RBNH和*RBOCOCH2CH2中的至少1种基团,其中,RB表示碳数1~5的烷基,*表示与Si键合一侧,E表示从α氨基酸除去1个伯氨基的残基,在E具有α氨基以外的其它氨基的情况下,所述其它氨基的N任选与其它结构单元W的A键合,所述α氨基酸的40摩尔%以上为碱性氨基酸。
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