[发明专利]微波处理装置及程序在审
| 申请号： | 201780001854.3 | 申请日： | 2017-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN107637166A | 公开（公告）日： | 2018-01-26 |
| 发明（设计）人： | 塚原保徳;田中雄也;栗原英资;金城隆平;渡边久夫 | 申请（专利权）人： | 微波化学有限公司 |
| 主分类号： | H05B6/80 | 分类号： | H05B6/80;B01J19/12;H05B6/68;H05B6/72 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司11327 | 代理人： | 温剑,陈英俊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够恰当地控制微波的照射的微波处理装置。微波处理装置(1)具备照射部(101)，从多个射出部(12)照射微波；移动部(102)，使多个射出部(12)单独地移动；以及控制部(107)，控制由移动部(102)进行的射出部(12)的移动；照射部(101)能够变更从多个射出部(12)射出的微波的相位，控制部(107)对照射部(101)从多个射出部(12)射出的微波的相位进行控制。 | ||
| 搜索关键词： | 微波 处理 装置 程序 | ||
【主权项】：
一种微波处理装置，其特征在于，具备：照射部，从多个射出部照射微波；移动部，使所述多个射出部单独地移动；以及控制部，控制由所述移动部进行的射出部的移动；所述照射部能够变更从所述多个射出部射出的微波的相位；所述控制部对所述照射部从多个射出部射出的微波的相位进行控制。
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