[发明专利]磁记录介质及其制造方法有效
| 申请号： | 201780002234.1 | 申请日： | 2017-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN107836022B | 公开（公告）日： | 2019-05-17 |
| 发明（设计）人： | 内田真治;中田仁志;森谷友博;古田旭;岛津武仁;大山浩永 | 申请（专利权）人： | 富士电机株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/738 | 分类号： | G11B5/738;G11B5/65;G11B5/851 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 周全;俞丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 使用种子层提供具有包含适合于垂直磁记录的有序合金的磁记录层的垂直磁记录介质。或者，在确保必要的热稳定性的同时提高记录密度。或者，兼顾磁性层的增厚和粒径的微细化。是一种磁记录介质，其特征在于依次包括基板、第1种子层、含有ZnO的第2种子层、含有MgO的第3种子层、和含有有序合金的磁记录层，且所述第1种子层含有Ru、和选自由氧化物、碳化物及氮化物组成的组中的至少一种。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质，其特征在于，依次包括基板、第1种子层、含有70wt％以上的ZnO的第2种子层、含有MgO的第3种子层、和含有有序合金的磁记录层，且所述第1种子层含有Ru、和选自由氧化物、碳化物及氮化物组成的组中的至少一种。
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