[发明专利]场效应管以及制造方法有效

专利信息
申请号: 201780003245.1 申请日: 2017-07-20
公开(公告)号: CN109564921B 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 肖祥;徐慧龙;张臣雄 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105;H01L21/00;H01L29/78
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 张耀光
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种场效应管以及制造方法,属于电子技术领域。场效应管包括:衬底层(201);设置于衬底层(201)之上的第一背栅电极(202)和第二背栅电极(203);覆盖于衬底层(201)和第一背栅电极(202)和第二背栅电极(203)之上的背栅绝缘层(204);覆盖于背栅绝缘层(204)之上的半导体层(205);覆盖于半导体层(205)之上的顶栅绝缘层(206);设置于背栅绝缘层(204)之上的漏电极(207)和源电极(208),漏电极(207)的一部分覆盖于半导体层(205)的第一边缘,源电极(207)的一部分覆盖于半导体层(205)的第二边缘;设置于顶栅绝缘层(206)之上的第一顶栅电极(209)和第二顶栅电极(210),其中,漏电极(207)和第二顶栅电极(210)电连接。这种场效应管具有高峰值电流,芯片占用面积小,制造工艺复杂度低,可实现大面积、低成本制造。
搜索关键词: 场效应 以及 制造 方法
【主权项】:
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