[发明专利]成像装置有效
| 申请号： | 201780003289.4 | 申请日： | 2017-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN108027238B | 公开（公告）日： | 2022-06-14 |
| 发明（设计）人： | 山田英史 | 申请（专利权）人： | 索尼半导体解决方案公司 |
| 主分类号： | G01C3/06 | 分类号： | G01C3/06;G01S17/894 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 乔焱;曹正建 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 通过组合多种测距方案以在避免投影光的干涉的同时提高测距精度。光源投影单元投影被强度调制的空间图案光。光飞行时间测距相机基于当空间图案光从被摄体反射时获得的反射光中包括的调制分量的光飞行时间来测量到被摄体的距离。空间信息测距相机基于反射光中包括的空间信息来测量到被摄体的距离。深度合成单元将光飞行时间测距相机和空间信息测距相机中的测距结果合成，以确定由光飞行时间测距相机或空间信息测距相机拍摄的图像的每个像素位置的深度值。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 装置 | ||
【主权项】：
1.一种成像装置，其包括：光源投影单元，其被构造成投影被强度调制的空间图案光；光飞行时间测距相机，其被构造成基于包括在来自被摄体的所述空间图案光的反射光中的调制分量的光飞行时间来测量到所述被摄体的距离；空间信息测距相机，其被构造成基于包括在所述反射光中的空间信息来测量到所述被摄体的距离；以及深度合成单元，其被构造成合成所述光飞行时间测距相机和所述空间信息测距相机中的距离的测量结果，以确定由所述光飞行时间测距相机或所述空间信息测距相机进行成像的图像的每个像素位置处的深度值。
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