[发明专利]磁性膜成膜装置及磁性膜成膜方法有效
| 申请号： | 201780003366.6 | 申请日： | 2017-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN108138312B | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | 小林洋介;岩井治宪;藤长徹志;井堀敦仁;谷典明 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06;C23C14/35;H01F41/18 |
| 代理公司： | 上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙) 31239 | 代理人： | 余文娟 |
| 地址： | 日本国神奈川*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 成膜装置具备：靶材(31)，包含磁性材料；搬送部(14)，支承基板(S)使基板(S)位于配置区域(R)，配置区域(R)是与靶材(31)相对的区域；以及第一磁场形成部(20)，相对于配置区域(R)位于靶材(31)的相反侧，对配置区域(R)在靶材(31)所在的一侧形成平行于摇动方向(Ds)的水平磁场(HM)，并在摇动方向(Ds)的至少配置区域(R)的一端与另一端之间沿着摇动方向(Ds)使水平磁场(HM)摇动，摇动方向(Ds)是沿着基板(S)的一个方向。 | ||
| 搜索关键词： | 磁性 膜成膜 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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