[发明专利]导电性膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201780003549.8 | 申请日： | 2017-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN108885919B | 公开（公告）日： | 2020-03-31 |
| 发明（设计）人： | 田口祐太朗;伊藤弘昭;高垣有作 | 申请（专利权）人： | 住友理工株式会社 |
| 主分类号： | H01B1/24 | 分类号： | H01B1/24;H01B5/02;H01B5/14;H01B13/00 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人： | 吴大建;霍玉娟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明中的导电性膜，包含弹性体和薄片状碳材料。以除导电剂外的全部固体量为100质量份计，该薄片状碳材料的含量为20质量份以上、60质量份以下。在入射角为20°的条件下测量的导电性膜的表面光泽度大于0.4％且小于10％。本发明的导电性膜的制备方法包括：液状组合物制备工序，制备包含：弹性体、包括石墨粉末和膨胀石墨粉末中的至少一种的导电剂、以及溶剂的液状组合物；粉碎处理工序，使用湿式喷射研磨机对该液状组合物进行粉碎处理；固化工序，将粉碎处理后的该液状组合物涂布在基材上。 | ||
| 搜索关键词： | 导电性 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种导电性膜，其特征在于，含弹性体和薄片状碳材料，以除导电剂之外的全部固体量为100质量份计，该薄片状碳材料的含量为20质量份以上60质量份以下，在入射角为20°的条件下测定的表面光泽度大于0.4％且小于10％。
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