[发明专利]系统隔离和光学隔间密封有效
| 申请号： | 201780004983.8 | 申请日： | 2017-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN108463928B | 公开（公告）日： | 2020-07-14 |
| 发明（设计）人： | 马克·寇摩斯基 | 申请（专利权）人： | 伊雷克托科学工业股份有限公司 |
| 主分类号： | H01S3/00 | 分类号： | H01S3/00;H01S3/101 |
| 代理公司： | 北京寰华知识产权代理有限公司 11408 | 代理人： | 林柳岑;贺亮 |
| 地址： | 美国奥勒冈州9722*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本案揭示一种镭射处理系统，该镭射处理系统包括：系统框架；处理框架，其由该系统框架可移动地支撑；光学器件壁，其耦接至该处理框架；处理护罩，其耦接至该系统框架且在该光学器件壁的上部周边区域及横向周边区域上方且并排地延伸；以及光学器件护罩，其耦接至该处理护罩。该处理框架经组配来支撑镭射源、工件定位系统及射束输送系统。该处理框架可相对于该处理护罩移动，且该处理框架可相对于该光学器件护罩移动。该处理护罩、该光学器件壁及该处理框架围封用于工件的镭射处理的第一空间。该光学器件护罩、该光学器件壁及该处理框架围封用于收容该镭射源的第二空间。 | ||
| 搜索关键词： | 系统 隔离 光学 隔间 密封 | ||
【主权项】：
1.一种镭射处理系统，其包含：系统框架；处理框架，其由该系统框架支撑且可相对于该系统框架移动，其中该处理框架经组配来支撑镭射源、工件定位系统及射束输送系统；光学器件壁，其耦接至该处理框架；处理护罩，其耦接至该系统框架且在该光学器件壁的上部周边区域及横向周边区域上方且并排地延伸，其中该处理护罩、该光学器件壁及该处理框架围封用于工件的镭射处理的第一空间，并且其中该处理框架可相对于该处理护罩移动；以及光学器件护罩，其耦接至该处理护罩，其中该光学器件护罩、该光学器件壁及该处理框架围封用于容纳该镭射源的第二空间，并且其中该处理框架可相对于该光学器件护罩移动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于伊雷克托科学工业股份有限公司，未经伊雷克托科学工业股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780004983.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：旋转连接器装置
- 下一篇：半导体激光器模块、半导体激光器模块的制造方法
