[发明专利]偏振片的制造方法有效
| 申请号： | 201780009259.4 | 申请日： | 2017-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN108603967B | 公开（公告）日： | 2020-08-21 |
| 发明（设计）人： | 並河均;佐佐田泰行;奥田周平 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;C09J5/00;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种偏振片的制造方法，其具有如下工序：在基材上形成胶乳层，并通过干燥而制作在上述基材上形成有光学薄膜的转印膜的工序；在上述转印膜的上述光学薄膜侧表面贴合起偏器的工序；以及从上述转印膜剥离上述基材的工序，当形成上述胶乳层的胶乳以10重量％与环己酮进行混合时实质上不溶解，上述基材的形成上述胶乳层侧的表面能为41.0～48.0mN/m，上述光学薄膜的厚度为1～10μm。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种偏振片的制造方法，其具有如下工序：在基材上形成胶乳层，并通过干燥而制作在所述基材上形成有光学薄膜的转印膜的工序；在所述转印膜的所述光学薄膜侧表面贴合起偏器的工序；以及从所述转印膜上剥离所述基材的工序，当形成所述胶乳层的胶乳以10重量％与环己酮进行混合时实质上不溶解，所述基材的形成所述胶乳层侧的表面能为41.0～48.0mN/m，所述光学薄膜的厚度为1～10μm。
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