[发明专利]提高后处理性能的基板形状、几何形状、定位和/或单元格密度在审
申请号: | 201780010143.2 | 申请日: | 2017-10-20 |
公开(公告)号: | CN108603428A | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | J·G·比希勒;R·G·卓然;R·M·约翰逊;S·M·霍尔;T·德哈特;J·L·阿朗佐;M·L·安德森;A·卡艳卡;G·E·玛夫罗迪斯;G·H·班滴 | 申请(专利权)人: | 康明斯排放处理公司 |
主分类号: | F01N3/022 | 分类号: | F01N3/022 |
代理公司: | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人: | 姜龙;须一平 |
地址: | 美国印*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 可以改变后处理部件的形状、入口几何形状和/或后处理组件内的位置以用于局部和/或整体排气流量控制。在一些实施方式中,后处理部件的主体具有非圆形横截面、非圆形开口和/或可变面几何形状。非圆形横截面和/或开口可以具有各种不同的形状。 | ||
搜索关键词: | 非圆形横截面 后处理部件 非圆形开口 后处理性能 后处理组件 基板形状 流量控制 整体排气 单元格 可变面 开口 | ||
【主权项】:
1.一种后处理部件,其特征在于,包括:具有穿过其中形成的多个通道的主体,其中所述主体具有非圆形横截面。
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