[发明专利]曝光装置、平板显示器的制造方法、器件制造方法、遮光装置及曝光方法有效
申请号: | 201780012572.3 | 申请日: | 2017-02-24 |
公开(公告)号: | CN108700825B | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 青木淳行;水桥谦介;中村贵;西川仁;金子宏和 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/68 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈伟;王娟娟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种曝光方法,其具备将光罩(M)的图案投影至基板(P)的多个投影光学单元,使光罩(M)和基板(P)沿着X方向相对移动而将光罩(M)的图案在基板(P)进行曝光,该曝光方法包含:第1曝光工序,其在以第1倾斜角度对通过投影光学单元投影在基板(P)上的投影区域的‑Y侧端部进行了遮光的状态下,将图案A投影至基板(P)上的A区域;步进移动工序,其使基板(P)移动;和第2曝光工序,其在以第2倾斜角度对投影区域的+Y侧的端部进行了遮光的状态下,将图案B投影至至少一部分与A区域重叠的B区域。 | ||
搜索关键词: | 曝光 装置 平板 显示器 制造 方法 器件 遮光 | ||
【主权项】:
1.一种曝光装置,其使物体相对于投影光学系统沿着第1方向相对移动并进行曝光,所述投影光学系统将规定图案投影至所述物体,所述曝光装置的特征在于,具备:遮光部,其对经由所述投影光学系统投影在所述物体上的投影区域中、根据所述第1方向上的位置而所述物体上的照明量沿着第2方向变化的规定区域进行遮光,其中,所述第2方向与所述第1方向交叉;和驱动部,其以使所述照明量变化的方式对所述遮光部进行驱动。
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