[发明专利]控制图案化工艺的方法、光刻设备、量测设备光刻单元和相关联的计算机程序有效
| 申请号： | 201780012610.5 | 申请日： | 2017-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN108700826B | 公开（公告）日： | 2021-04-27 |
| 发明（设计）人： | M·库比斯;M·乔彻姆森;R·S·怀斯;N·莎玛;G·A·迪克西特;L·瑞亚南;E·M·维亚基纳;M·卢卡;J·C·H·姆肯斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;泛林集团 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种方法以及相关联的设备和计算机程序，用于确定针对图案化工艺的感兴趣参数(诸如临界尺寸)的校正。该方法包括确定针对曝光控制参数的曝光控制校正，并且可选地基于结构的感兴趣参数的测量值、曝光控制关系和工艺控制关系来确定针对工艺控制参数的工艺控制校正。曝光控制关系描述感兴趣参数对曝光控制参数的依赖性，并且工艺控制关系描述感兴趣参数对工艺控制参数的依赖性。曝光控制校正和工艺控制校正可以被共同优化，以最小化后续经曝光和处理的结构的感兴趣参数相对于目标感兴趣参数的变化。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 图案 化工 方法 光刻 设备 单元 相关 计算机 程序 | ||
【主权项】：
1.一种控制图案化工艺的感兴趣参数的方法，所述方法包括：基于在工艺条件下根据结构对所述感兴趣参数的确定，以及基于曝光控制关系和工艺控制关系，确定针对曝光控制参数的曝光控制校正，其中所述曝光控制关系描述所述感兴趣参数对所述曝光控制参数的依赖性，并且所述工艺控制关系描述所述感兴趣参数对工艺控制参数的依赖性。
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