[发明专利]含有硅的图案反转用被覆剂有效

专利信息
申请号: 201780012899.0 申请日: 2017-02-10
公开(公告)号: CN108699389B 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 志垣修平;谷口博昭;中岛诚 申请(专利权)人: 日产化学株式会社
主分类号: C09D183/04 分类号: C09D183/04;G03F7/11;C08G77/06;C08G77/16
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 李照明;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供高低差基板的平坦化用组合物。本发明提供了在有机图案上涂布的高低差基板平坦化用组合物,含有含水解性硅烷的水解缩合物的聚硅氧烷和溶剂,上述聚硅氧烷含有相对于Si原子为20摩尔%以下的硅醇基,上述聚硅氧烷的重均分子量为1000~50000。
搜索关键词: 含有 图案 转用 被覆
【主权项】:
1.一种有机图案平坦化用组合物,用于涂布在有机图案上,含有聚硅氧烷和溶剂,所述聚硅氧烷含有水解性硅烷原料的水解缩合物,上述聚硅氧烷相对于Si原子以20摩尔%以下的比例含有硅醇基,上述聚硅氧烷的重均分子量为1000~50000。
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