[发明专利]辐射冷却结构和系统有效
| 申请号： | 201780013936.X | 申请日： | 2017-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN109070695B | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 杨荣贵;尹晓波;谭刚;赵东亮;马耀光;翟耀 | 申请（专利权）人： | 科罗拉多大学董事会;怀俄明大学 |
| 主分类号： | B60H1/32 | 分类号： | B60H1/32;F28F13/18;F28F3/02;F25B23/00 |
| 代理公司： | 深圳市万商天勤知识产权事务所(普通合伙) 44279 | 代理人： | 潘笑玲 |
| 地址： | 美国科罗拉多州*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了聚合物基的选择性辐射冷却结构，该辐射冷却结构包括聚合物或聚合物基复合材料的选择性发射层。典型选择性辐射冷却结构采取薄片、膜或涂层的形式。本发明还提供了使用聚合物基的选择性辐射冷却结构通过选择性热辐射从主体去除热量的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 冷却 结构 系统 | ||
【主权项】：
1.一种选择性辐射冷却结构，该结构包括选择性发射层，包括聚合物和分散在该聚合物中的多个介电粒子，所述选择性发射层中的所述介电粒子的体积百分比范围从1％至25％，并且所述粒子的特征在于其平均尺寸为3μm至30μm，其中所述选择性辐射冷却结构的特征在于对波长范围7μm至14μm的辐射具有从0.5至1.0的平均发射率。
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