[发明专利]半导体基板或装置的洗涤液及洗涤方法在审
| 申请号： | 201780014217.X | 申请日： | 2017-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN108701608A | 公开（公告）日： | 2018-10-23 |
| 发明（设计）人： | 并木拓海;原口高之;施仁杰 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/304 | 分类号： | H01L21/304;C11D7/32;C11D7/50;C11D17/08;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军;唐峥 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供尤其是将由含有硅原子的无机物形成的残余物或膜除去的洗涤性能优异、且闪点高的用于半导体基板或装置的洗涤液及洗涤方法。洗涤液，其是含有水溶性有机溶剂、季铵氢氧化物、及水的用于半导体基板或装置的洗涤液，该水溶性有机溶剂是闪点为60℃以上的二醇醚系溶剂或非质子性极性溶剂。洗涤方法，所述洗涤方法包括下述步骤：使用该洗涤液，从半导体基板或装置将在该半导体基板上形成的残余物或膜、或者在该装置上附着的残余物或膜进行洗涤，所述残余物或膜是由选自由抗蚀剂、及含有硅原子的无机物组成的组中的至少1种形成的。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体基板 洗涤液 洗涤 残余物 无机物 水溶性有机溶剂 硅原子 闪点 非质子性极性溶剂 二醇醚系溶剂 季铵氢氧化物 洗涤性能 抗蚀剂 附着 自由 | ||
【主权项】：
1.一种洗涤液，其是含有水溶性有机溶剂、季铵氢氧化物及水的用于半导体基板或装置的洗涤液，其中，所述水溶性有机溶剂是闪点为60℃以上的二醇醚系溶剂或非质子性极性溶剂。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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