[发明专利]利用散射以降低源自发荧光并改善均匀性的成像系统和方法有效

专利信息
申请号: 201780014277.1 申请日: 2017-02-15
公开(公告)号: CN108780216B 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 马修·陈 申请(专利权)人: 分子装置有限公司
主分类号: G02B21/00 分类号: G02B21/00;G01N21/64
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 顾丽波;张娜
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 利用散射以降低源自发荧光并改善均匀性的成像系统和方法。在一些实施例中,系统可包括多个透射照明光源,其被配置成利用不同颜色的透射照明光照射检查区域,同时,相同的漫射器存在于从透射照明光源到检查区域的每个光学路径中。系统还可包括激发光源,其被配置成利用激发光照射所述检查区域。系统可被配置成利用透射照明光源中的每个透射照明光源照射检查区域,并且可选择地,利用激发光源照射检查区域,而不在从透射照明光源的光学路径中的任一个中移动部件。系统还可包括图像检测器,其被配置成检测检查区域的灰度图像;和处理器,其被配置成根据灰度图像创建彩色透射照明图像。
搜索关键词: 利用 散射 降低 源自 荧光 改善 均匀 成像 系统 方法
【主权项】:
1.一种成像系统,包括:多个透射照明光源,其被配置成利用不同颜色的透射照明光照射检查区域;存在于从所述透射照明光源到所述检查区域的每个光学路径中的相同的漫射器;激发光源,其被配置成利用激发光照射所述检查区域;图像检测器,其被配置成检测所述检查区域的灰度图像;和处理器,其被配置成根据灰度图像创建彩色透射照明图像;其中,所述成像系统被配置成利用来自所述透射照明光源中的每个透射照明光源的透射照明光并利用来自所述激发光源的激发光照射所述检查区域,而不在从所述透射照明光源到所述检查区域的所述光学路径中的任一个中移动一个或多个部件。
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