[发明专利]用于光线追踪架构的采样模式生成的方法和装置在审
| 申请号： | 201780015016.1 | 申请日： | 2017-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN108780585A | 公开（公告）日： | 2018-11-09 |
| 发明（设计）人： | D·R·鲍德温 | 申请（专利权）人： | 英特尔公司 |
| 主分类号： | G06T15/06 | 分类号： | G06T15/06;G06T1/20;G06T1/60 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张欣;黄嵩泉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于光线追踪架构中的采样模式生成的装置和方法。例如，图形处理装置的一个实施例包括：光线生成电路，用于从一个或多个图像块生成光线流；以及样本模式生成电路，用于针对光线流中的光线生成样本，生成的所述样本在给定帧的各像素之间呈现至少一些随机性但在多个帧之间是可重复的。 | ||
| 搜索关键词： | 采样模式 光线追踪 生成电路 光线流 样本 架构 随机性 图形处理装置 方法和装置 样本模式 可重复 图像块 像素 | ||
【主权项】：
1.一种图形处理装置，包括：光线生成电路，用于从一个或多个图像块生成光线流；以及样本模式生成电路，用于针对所述光线流中的光线生成样本，生成的所述样本在给定帧的各像素之间呈现至少一些随机性，但在多个帧之间是可重复的。
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