[发明专利]多井硒器件及其制造方法有效
申请号: | 201780015785.1 | 申请日: | 2017-01-09 |
公开(公告)号: | CN108780823B | 公开(公告)日: | 2022-04-19 |
发明(设计)人: | 阿米尔侯赛因·戈登;赵伟 | 申请(专利权)人: | 纽约州立大学研究基金会 |
主分类号: | H01L31/08 | 分类号: | H01L31/08;H01L31/107;H01L31/0392;H01L31/0224;H01L27/146 |
代理公司: | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人: | 李德魁 |
地址: | 美国纽约州*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供了一种场成形多井探测器及其制造方法。通过在衬底上沉积像素电极、沉积第一介电层、在第一介电层上沉积第一导电栅极层、在第一导电栅极层上沉积第二介电层,在第二电介质层上沉积第二导电栅极层、在第二导电栅层上沉积第三电介质层、在第三电介质层上沉积蚀刻掩模来配置该探测器。通过蚀刻第三介电层、第二导电栅极层、第二介电层、第一导电栅极层和第一介电层来形成两个柱。通过蚀刻到像素电极而不蚀刻像素电极来形成两个柱之间的井,并且用a‑Se填充井。 | ||
搜索关键词: | 多井硒 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制造多井非晶硒(a‑Se)探测器的方法,包括:邻近衬底沉积像素电极;沉积第一介电层;在第一介电层上沉积第一导电栅极层;在第一导电栅极层上沉积第二介电层;在第二介电层上沉积第二导电栅极层;在第二导电栅极层上沉积第三介电层;在第三介电层上沉积蚀刻掩模;执行第一蚀刻以形成至少两个柱,其间具有至少一个井;在所述至少两个柱上和所述至少一个井的底部上沉积氧化物介电层;以及执行第二蚀刻以从所述至少一个井的底部去除氧化物介电层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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